材料分析理論與方法-全84集

材料研究方法的分析及分類

化學成分分析

化學成分的表徵包括元素成分分析和微區成分分析。所用儀器包括：光譜：紫外光譜、紅外光譜、螢光光譜、激光拉曼光譜等色譜：氣相色譜、液相色譜、凝膠色譜、裂解色譜等。

熱譜：差熱分析、熱重分析、示差掃瞄量熱分析等。

表面分析譜：X射線光電子能譜、俄歇電子能譜、電子探針、原子探針、離子探針、激光探針等。

原子吸收光譜、質譜、核磁共振譜、穆斯堡爾譜等。

結構測定包括晶體結構、薄膜結構、表面結構分析等。

X射線衍射分析：晶體結構分析。

電子衍射：晶體結構分析。

中子衍射：晶體結構分析、晶體磁學性質研究等。

俄歇電子能譜：表面結構分析。

圖像分析

光學顯微分析：透射光顯微鏡（偏光顯微鏡、相差顯微鏡）、反射光顯微鏡、近場光學顯微鏡等。

電子顯微分析：掃瞄電鏡、透射電鏡、掃瞄隧道顯微鏡、原子力顯微鏡等。

透射電鏡的基本原理及主要結構組成及作用

原理：在高溫及電場的作用下逸出自由電子，進一步通過電場加速和磁透鏡聚焦，使電子束獲得高能量和小直徑，最終形成高能電子束。由電子槍發射的自由電子經電場加速、兩級磁透鏡聚焦後穿透樣品，形成透射電子束，經三級磁透鏡放大後最終在螢光屏上形成電子圖像。

主要結構組成：電子照明系統：由電子槍和聚光鏡共同組成，其作用是提供高能量、小直徑的透射電子束用以後續成像。

電子光學系統：該部分由試樣室、物鏡、中間鏡和投影鏡組成。高性能透射電鏡一般設有兩個中間鏡和兩個投影鏡。物鏡、中間鏡、投影鏡均屬於磁透鏡，通過三者共同放大作用，可獲得很高的總放大倍率。

觀察記錄系統：由電子成像系統形成的電子圖像通過螢光屏或照相系統進行觀察記錄。通過觀察窗口可直接觀察螢光屏上的圖像。

真空系統：避免空氣分子與高速運動電子發生碰撞；避免電子槍發生高壓放電現象；高真空有利於延長電子槍燈絲使用壽命；避免樣品表面被污染。

電源系統：電子槍所需的高壓電源系統；磁透鏡勵磁電流所需的電源；真空系統工作所需的電源；安全保護系統所需的電源；其他各類操作電源。